Am Lehrstuhl für Technische Physik ist es einem Forschungsteam gelungen, einen topologischen Isolator zu entwickeln, der seine besonderen Eigenschaften bei deutlich höheren Temperaturen zeigt als bisher möglich. Durch eine neuartige Dreischichtstruktur lassen sich die randgeleiteten Elektronenströme deutlich stabiler erhalten, ein wichtiger Schritt hin zu topologischer Elektronik, die perspektivisch mit etablierter Halbleitertechnologie kompatibel ist.

(Bild: Mason / Adobe Stock / generiert mit KI)

On Thursday, October 2, the Chair of Applied Physics hosted the industry workshop “From Applied Physics to Industry”, an afternoon dedicated to exploring career paths beyond academia. Four alumni of our chair, Dr. Johannes Koeth, Dr. Georg Knebl, Dr. Tristan Harder, and Johannes Beierlein, returned to Würzburg to share their professional experiences and insights.

Ph.D. student Yorick Reum has returned from a JMU Mobility Fellowship at NIST in the USA – bringing new skills in quantum photonics back to Würzburg.